NIL納米壓印設備在能耗方麵相比EUV可以降低90%。 同時由於轉換率更好研發成本更低,比EUV研發成本降低60%左右,所以納米壓印也被視為目前最有可能替代EUV實現7納米以下製程的一項主流的光...
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三百三十五:降低芯片七十%製造成本(1 / 1)
NIL納米壓印設備在能耗方麵相比EUV可以降低90%。 同時由於轉換率更好研發成本更低,比EUV研發成本降低60%左右,所以納米壓印也被視為目前最有可能替代EUV實現7納米以下製程的一項主流的光...
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