帝國集團在香江科技城一家科技公司正式研發出一臺可以商用的光刻機。

這意味著什麼？

可想而知。

從八十年代初開始，楊銘在香江北部成立科技城，就是布局半導體產業鏈的，除了成立香江集成電路製造公司外。

像光刻機這些，楊銘也早已讓人成立。

這些年，除了東洋，歐美，香江本地的人才加入外，還有這兩年蘇連方麵的人才加入。

如今幾年時間過去，第一臺光刻機終於研發出來。

當然，現在的光刻機和未來三四十年後的光刻機相比，其實復雜程度還要簡單太多了。

就國內方麵來說，早在1965年，Z國科學院便研製出了65型接觸式光刻機。

如果不考慮性能上的差距，M國第一臺接觸式光刻機是由GCA公司於1961年製造的，彼此間隻差了4年。

彼時的Z國人憋著一股“超英趕美”的誌氣，從不服輸。在這種信念的支撐下，Z國光刻機技術進入了一段蓬勃輝煌的獨立自主發展期。

70年代初期，Z國科學院開始研究計算機輔助光刻掩模工藝；

1977年，我國成功研製GK-3型半自動光刻機。

1980年，箐華大學在第四代分步式投影光刻機技術研究上取得成功，光刻精度達3微米，接近國際主流水平。

1982年，中科院109廠研製出第一臺KHA-75-1型光刻機，與世界尖端水平差距縮短到5年內。

1985年，國內新型分步式光刻機試驗機通過驗收，經專家鑒定，其性能逼近M國光刻機巨頭GCA公司4800DSW型光刻機的水平。

值得一提的是，這是Z國第一臺分步投影式光刻機，雖不像一些資料中描述的那般“領先世界”，但它卻讓國內在光刻機領域緊緊咬住了世界第一梯隊的步伐，與頂端的差距最多隻有七八年。

至此，Z國光刻機技術發展史已然抵達頂點，但誰又能想到，它竟也成了一個輝煌時代的落幕？

隨著大開放的深入，Z國以積極的姿態融入世界，撲麵而來的巨大機遇中也夾藏著許多“甜蜜的毒藥”。

上世紀七八十年代，Z國和M國度過了一段“蜜月期”，大到先進武器，小到各種民用產品，隻要錢到位都不再是觸不可及的奢望。

西方國家也表現得相當“慷慨”，連光刻機這樣的尖端產品也願意出售。

可以說，西方對國內的“慷慨”，究竟是一時的好意還是險惡的陰謀，其中的利害實在意味深長。

另一方麵，國內光刻機發展恰巧遭遇瓶頸，被卡在193nm光源已有小二十年。

既然能夠輕鬆獲取，為什麼還要費勁研發呢？彼時的Z國遠不算富裕，兩相對比，“買辦思想”很快就占據了主流。

逆水行舟不進則退，Z國與第一梯隊的距離越來越大，很快便徹底脫節。

其實在這個領域，相比國內與美、日、歐的差距，第一梯隊內部的鬥爭要慘烈且殘酷得多。

光刻機的原理，其實並不復雜，甚至在發在初期，其復雜程度甚至不如照相機；一些對光刻機有需求的企業並不向專業廠商購買，而是買來零件自己組裝，如英特爾。

而最早的光刻機發展潮流，是由M國人領導的。

1961年，M國GCA公司研製出第一臺接觸式光刻機，成為光刻機產業的巨頭。

1967年，在M國空軍的支持下，珀金埃爾默儀器公司推出世界首臺投影式光刻機Micralign100，一夜間將芯片良率提升了7倍。

1978年，GCA公司又推出步進式光刻機DSW4800，分辨率可達1微米。

雖然該型光刻機的單價高達45萬美元，但各大企業仍趨之若鶩，根本不愁賣。至此，GCA公司進入全盛時期，在其引領下，M國光刻機產業如日中天，殊不知養虎為患，由M國人打造的“產業盛世”已經進入了倒計時。

進入70年代，各大半導體廠商越來越多地選擇東洋企業以配套光刻機的光學鏡頭，如尼康、佳能等。

在這個過程中，東洋企業將本不復雜的光刻機技術摸得一清二楚，並開始了自己的嘗試。

隨著光刻技術的不斷進步，芯片製程越來越小，光刻機技術對光學係統的依賴也越來越重。在這個過程中，以光學元件見長的東洋企業逐漸崛起，找書苑 wｗw.zhａｏshuyuan.ｃom 飛快地從M國人手中奪走市場份額。GCA公司沒落並被收購，最終，東洋人成為光刻機領域新的領頭羊。

歷史上，1984年，正當國內對獨立研發光刻機的追求逐漸被“買辦思想”蠶食殆盡時，荷蘭飛利浦公司在總部大樓前的空地上臨時搭建了一排簡易廠房，作為一家擁有31名員工的新成立的合資公司的辦公場所，這個不起眼的小公司，便是後來掌握超過六成光刻機市場、地位無可撼動的荷蘭阿斯麥（ASML）公司，若想要生產10nm以下芯片，隻能向該公司購買尖端光刻機，除此之外沒有第二個選擇；這樣的光刻機，一臺的售價為1.2億美元，有錢還不一定能買到。

甚至，後來曾向阿斯麥公司訂購一臺先進光刻機，連定金都交了，誰料好巧不巧，荷蘭費爾德霍芬一座工業園發生火災，殃及阿斯麥公司的一家重要供應商，結果很多年後，國內也沒收到貨。

2007年，阿斯麥公司占據的市場份額首次超過尼康，世界頭把交椅正式易主。

(本章完)

手機用戶請瀏覽閱讀，掌上閱讀更方便。